Küresel silika tozu küresel bir silisyum dioksit malzemesidir. Mükemmel özelliklere ve önemli uygulamalara sahiptir. Parçacıklar düzenli kürelerdir. Düzensiz silika ile karşılaştırıldığında, küresel silika tozu daha iyi performans gösterir. Genellikle yüksek saflığa ve darlığa sahiptir parçacık boyutu dağılım. Ayrıca iyi beyazlık gösterir. Akışkanlığı mükemmeldir ve dağılımı iyidir. Bu özellikler çeşitli malzemelerde eşit şekilde dağılmasına yardımcı olur. Bu, işlevsel performansını etkili bir şekilde destekler.
Küresel silikanın hazırlanma yöntemleri kabaca iki kategoriye ayrılabilir: fiziksel yöntem ve kimyasal yöntem. Bu, hazırlama sırasında kimyasal değişikliklerin meydana gelip gelmediğine bağlıdır.
Fiziksel yöntem
Bilyalı değirmen
Ultra ince toz üretmek için öğütme ve sınıflandırma ekipmanları kullanılır.
Malzeme durumuna göre kuru ve ıslak yöntemleri içerir. Islak öğütme, taşıyıcı ortam olarak su kullanır. Parçacıklar, karıştırmalı bir değirmen tarafından öğütülür. Bu, iyi dağılıma sahip ultra ince ürünler üretir. Parçacık boyutu da nispeten düzgündür.
Sprey yöntemi
Bu yöntem, numuneyi elde etmek için sıvı ham maddeyi bir sprey kurutucudan hızla kurutmaktır. Özellikle, sıvı ham madde önce atomizerden geçerek son derece ince damlacıklar oluşturacak ve daha sonra damlacıklar sıcak hava ile temas edecek, içerideki nem dışarı doğru göç etmeye başlayacak ve ham madde parçacıkları kümeleşecek ve kurutmadan sonra istenilen ürün elde edilebilecektir.
Alev küreleştirme yöntemi
Yüksek sıcaklık ortamında (1600-2000℃ arasındaki sıcaklık), toz yüzeyinin kenarları ve köşeleri ısıtıldıktan sonra kademeli olarak eriyecektir. Daha sonra, yüzey geriliminin etkisi altında kademeli olarak küreler oluşacaktır. Hammadde olarak sıradan kuvars tozu kullanılırsa, oksijen-asetilen alev yöntemi ile küresel silikon tozu hazırlanabilir. Ürünün yüzeyinin pürüzsüz olmasını ve küreselleşme oranının 95%'ye ulaşmasını sağlayabilir.
Alev eritme yöntemi
Öncelikle, açısal silisyum mikro tozu hammadde olarak kullanılır ve üzerinde kırma, eleme ve arıtma gibi ön işlem işlemleri gerçekleştirilir. Yani, açısal silisyum mikro tozu önce bir jet kırıcı ile ezilir. Çok aşamalı ön işlemden sonra, uygun parçacık boyutuna sahip malzeme elenir. Daha sonra, asetilen, doğal gaz ve diğer gazlar erimiş toz için ısı kaynağı olarak kullanılır. Bu tür gazların yanmasıyla oluşan alev temiz ve kirlilik içermez. Daha sonra, uygun parçacık boyutuna sahip açısal silisyum mikro tozu, yüksek sıcaklıkta alev eritme yöntemi ile anında yüksek sıcaklıkta eritilir. Bundan sonra, küreselleşme oluşturmak için hızla soğutulur ve son olarak yüksek saflıkta ve düzgün parçacık boyutuna sahip küresel bir silisyum mikro tozu elde edilebilir.
Plazma yöntemi
Ark plazmasından yüksek sıcaklıklar kullanır. Silika veya kuvars tozu damlacıklar halinde erir. Yüzey gerilimi damlacıkların küreler oluşturmasına yardımcı olur. Soğuduktan sonra küresel silika parçacıkları oluşur.
Yüksek sıcaklıkta kalsinasyon
Yüksek sıcaklıkta kalsinasyon doğal kuvars tozuyla başlar. Toz alkali koşullar altında yaşlandırılır. Daha sonra safsızlıkları gidermek için filtrelenir. Filtrelenen malzeme susuzlaştırılır ve kurutulur. Blok numuneleri oluşturmak için bir bağlayıcı eklenir. Bloklar yüksek sıcaklıktaki bir fırında kalsine edilir. Soğutulduktan sonra ürün dağıtılır. Daha sonra öğütme ve küreselleştirmeden geçer. Manyetik ayırma ve hava sınıflandırması takip eder. Son ürün yüksek saflıkta küresel silikadır. Yüksek küreselleştirme oranına ve iyi beyazlığa sahiptir. Toz ayrıca iyi akar ve dağılır. Ancak, bu yöntem hala laboratuvar araştırma aşamasındadır.
Doğrudan yanma yöntemi
Doğrudan yanma yöntemi doğal yakıt kullanır mineral alev füzyonu için toz.
Bu durum hem saflığı hem de parçacık boyutu dağılımını sınırlar.
Yüksek sıcaklıkta eriyik püskürtme yöntemi
Bu yöntem, yüksek saflıkta kuvarsı 2100-2500℃ yüksek sıcaklıkta sıvıya eritmek ve ardından püskürtme ve soğutma gibi işlemlerden geçerek son olarak küresel silikon tozu elde etmektir. Ürünün yüzeyi pürüzsüzdür ve küreselleşme oranı ve amorf oranı 100%'ye ulaşabilir.
Kimyasal yöntem
Gaz fazı yöntemi
Gaz fazı yöntemi, silisyum halojenürlerin damıtılmasıyla başlar. Daha sonra yüksek sıcaklıklarda buharlaştırılırlar. Hidrojen ve oksijen belirli oranlarda eklenir. Basınç ve ısı altında gaz fazı hidrolizi gerçekleşir. Ürünler bir siklon ayırıcı kullanılarak toplanır. Bu, yüksek saflıkta nanosilika parçacıkları verir. Reaksiyon süreci iyi kontrol edilir. Ancak, bu yöntemin maliyeti yüksektir. Organik yan ürünlerin işlenmesi de zordur.
Yağış yöntemi
Çöktürme yönteminde ham madde olarak su camı ve asit ajanları kullanılır. Uygun bir yüzey aktif madde de eklenir. Hazırlama sırasında sıcaklık kontrolü çok önemlidir. pH 8'i geçtiğinde bir dengeleyici eklenir. Yıkama, kurutma ve kalsinasyondan sonra küreler oluşur. Bu yöntem, düzgün küresel silika tozu verir. Düşük maliyetli ve basit, kontrol edilebilir bir işleme sahiptir. Endüstriyel üretim için uygundur. Ancak ürün kolayca kümeleşme eğilimindedir.
Hidrotermal sentez
Sıvı fazda nanopartikül hazırlanmasında hidrotermal sentez yaygın olarak kullanılmaktadır.
150–350℃ yüksek sıcaklıklarda ve yüksek basınçta meydana gelir. İnorganik ve organik bileşikler suyla reaksiyona girer. Güçlü konveksiyon iyonları ve molekülleri büyüme bölgelerine doğru iter. Tohum kristalleri bu bölgelere yerleştirilir. Aşırı doymuş çözeltiler ve kristaller oluşur. İnorganikler filtrelenir, yıkanır ve kurutulur. Bu, ultra ince, yüksek saflıkta parçacıklar oluşturur. Diğer sıvı yöntemlerinde ihtiyaç duyulan oksit dönüşümünü önler. Bu, sert aglomerasyon olasılığını azaltır.
Sol-jel yöntemi
Sol-jel yöntemi, ham maddelerin sıvı bir fazla karıştırılmasıyla başlar. Belirli koşullar altında hidroliz gerçekleşir. Kimyasal yoğunlaşma bir silika sol oluşturur. Zamanla, 3 boyutlu bir silika jel ağı oluşur. Jel daha sonra filtrelenir ve yıkanır. Daha sonra kurutulur ve sinterlenir. Bu, nanosilika veya nanokuvars parçacıkları üretir.
Mikroemülsiyon yöntemi
Mikroemülsiyon yöntemi, yüzey aktif maddeler kullanarak düzgün bir emülsiyon oluşturur. Başlangıçta karışmayan iki fazı harmanlar. Çekirdeklenme ve büyüme, sınırlı arayüz boşluklarında meydana gelir. Silisyum kaynağı, parçacık oluşumunu yönlendirir. Isıl işlemden sonra küresel silika veya kuvars oluşur. Sınırlı alan, küçük parçacık boyutuna yol açar. Topaklanmanın meydana gelme olasılığı da daha düşüktür.
Çözüm
Sonuç olarak, küresel silika tozu, tekdüze parçacık boyutu ve mükemmel dispersiyon özelliklerine sahip oldukça rafine bir malzemedir. Küresel yapısı akışkanlığı ve kararlılığı artırarak elektronik, kaplamalar ve ilaçlar dahil olmak üzere çeşitli endüstriyel uygulamalar için ideal hale getirir. Üstün performansıyla küresel silika, birçok yüksek teknoloji endüstrisinde temel bir bileşen olmaya devam etmektedir.
Epik toz
Epik Toz, Ultra ince toz endüstrisinde 20+ yıllık iş deneyimi. Ultra ince tozun gelecekteki gelişimini aktif olarak teşvik edin, ultra ince tozun ezilmesi, öğütülmesi, sınıflandırılması ve modifikasyon sürecine odaklanın. Ücretsiz danışmanlık ve özelleştirilmiş çözümler için bizimle iletişime geçin! Uzman ekibimiz, toz işleme değerinizin en üst düzeye çıkarılması için yüksek kaliteli ürünler ve hizmetler sunmaya kendini adamıştır. Epic Powder—Güvenilir Toz İşleme Uzmanınız!