스테아르산 개질 탄산 칼슘 표면 소수성 향상을 통해 폴리머 호환성을 개선합니다. 화학적인 스테아르산과의 결합은 복합재에서 입자 분산 안정성을 증가시킵니다. 이 처리법은 비용 효율성을 유지하면서 습기 민감성을 감소시킵니다. 향상된 계면 접착력은 코팅 및 엘라스토머에서 산업적 응용을 가능하게 합니다.
스테아르산 개질 탄산칼슘 주요 장점
- 최적화된 소수성(물 접촉각 >100°)
- 이중 흡착 메커니즘(화학적/물리적 결합)
- 열 안정성(300°C 이상에서 TGA 확인 분해)
- 광범위한 매트릭스 적응성(에폭시, 고무, 접착제)
- 에너지 효율적 처리(습기 내성 <1%)
스테아르산은 비교적 저렴한 가격을 가진 일반적인 장쇄 지방산입니다. 탄산칼슘에 가장 일반적으로 사용되는 표면 개질제입니다. 주로 친유성 그룹과 친수성 그룹의 두 부분으로 구성됩니다. 친수성 그룹은 물리화학적 흡착을 통해 탄산칼슘 표면과 상호 작용합니다. 이는 플라스틱, 고무 및 접착제를 포함한 중합체 매트릭스에서 입자 호환성과 분산을 향상시킵니다.
스테아르산(소금) 개질 탄산칼슘은 건식법 또는 습식법으로 생산할 수 있다. 일반적으로 습식 공정은 스테아르산나트륨과 같은 스테아르산염을 사용한다.
스테아르산 건조 개질 탄산칼슘
이 과정은 재료 안정성을 보장하기 위해 탄산칼슘을 건조하는 것으로 시작합니다(수분 <1%인 경우). 그런 다음 스테아르산을 표면 개질제로 추가하여 친수성 그룹을 통해 물리화학적 흡착을 가능하게 합니다. 이렇게 하면 향상된 폴리머 호환성을 위한 분말 표면 개질이 완료됩니다.
연속 분말 표면 처리 장비를 사용할 때, 재료와 표면 개질제는 연속적이고 동기적으로 공급됩니다. 스테아르산은 고체 분말 형태로 직접 첨가할 수 있습니다. 투여량은 분말의 입자 크기 또는 비표면적은 일반적으로 탄산칼슘 질량의 0.8%-1.2%입니다.
탄산칼슘 연속분말 표면처리 장비 3종을 추천드립니다.
탄산칼슘 표면 개질에는 균일성을 보장하기 위한 고급 장비가 필요합니다. 코팅 그리고 산업 효율성. 이 분야에서는 세 가지 연속 코팅 시스템이 탁월합니다.
핀밀 코팅기
- 고속 로터-스테이터 충돌을 통해 99% 코팅 균일성을 달성합니다.
- 조절 가능한 분쇄 강도로 20μm 이하의 입자를 처리합니다.
- 건조한 상태에서 동시에 연삭과 코팅이 가능합니다.
터보 밀 코팅기
- 원심력과 공기 흐름을 결합하여 빠른 분산을 실현합니다.
- 다단계 혼합 챔버를 사용하여 개질제 소비를 15%만큼 줄입니다.
- 대규모 생산 시 최대 10톤/시간의 처리량을 처리합니다.
- 정밀한 온도 제어로 97% 활성화율을 유지합니다.
3롤러 코팅기
- 낮은 투자: 낮은 투자 비용으로 성숙한 기술을 갖춤.
- 효율적인 코팅: 응집물이 최소화되어 코팅 속도가 빠릅니다.
- 환경적 이점: 작동 중 먼지가 발생하지 않습니다.
- 에너지 효율성: 자체 마찰로 인해 열이 발생하여 에너지 비용이 절감됩니다.
- 연속 생산: 대규모 산업용으로 적합합니다.
표면 코팅 개질은 고속/수평 패들 시스템과 같은 온도 제어 믹서를 활용합니다. 이 배치 공정에는 사전 측정된 재료와 스테아르산을 사용한 15-60분 혼합 사이클이 포함됩니다. 스테아르산 투여 범위는 탄산칼슘 0.8-1.5wt%입니다. 반응 온도는 100°C를 유지합니다. 처리된 재료는 표면 흡착이 완료된 후 포장을 위해 배출됩니다.
스테아르산을 더 잘 분산시키고 탄산칼슘 입자와 고르게 반응시키기 위해 스테아르산을 미리 용매(무수 에탄올 등)로 희석할 수도 있습니다. 또한 개질 중에 다른 첨가제를 적절한 양으로 첨가할 수도 있습니다.
스테아르산 습식변성탄산칼슘
습식 개질은 수용액에서 탄산칼슘 표면을 개질하는 것입니다. 일반적인 공정은 먼저 스테아르산을 비누화한 다음 탄산칼슘 슬러리에 첨가하고 일정 기간 반응시킨 후 여과하고 건조하는 것입니다. 탄산칼슘을 기체상보다 액상에서 분산시키는 것이 더 쉽습니다.
또한 분산제를 첨가하면 분산 효과가 좋아져 액상의 탄산칼슘 입자와 표면 개질제 분자가 더욱 고르게 작용한다. 탄산칼슘 입자가 스테아레이트를 흡착하면 표면 에너지가 감소한다. 여과 및 건조 후 2차 입자가 형성되더라도 응집 및 결합력이 약해져 단단한 응집물이 형성되지 않는다. 작은 전단력으로 재분산할 수 있다.
습식 표면 개질 장비는 일반적으로 더 간단하며, 대부분 교반기와 정적 믹서가 있는 용기입니다. 강한 교반은 개질 활성화 효율을 개선하고 반응 시간을 단축할 수 있지만 장비의 성능 요구 사항이 높습니다.
습식 표면 개질은 실온에서도 수행할 수 있지만 반응 시간이 길다. 따라서 일반적으로 표면 개질을 가열해야 하며 개질 온도는 일반적으로 50-100°C 정도이다.
습식 표면 개질은 습식 방법으로 분쇄된 경질 탄산칼슘과 초미립 중질 탄산칼슘의 표면 개질에 자주 사용됩니다.